Band alignment of HfO2/multilayer MoS2 interface determined by x-ray photoelectron spectroscopy: Effect of CHF3 treatment

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标题	Band alignment of HfO2/multilayer MoS2 interface determined by x-ray photoelectron spectroscopy: Effect of CHF3 treatment
网址	https://doi.org/10.1063/1.4930873
DOI	10.1063/1.4930873 doi
求助人	张tuanzi 在 2026-09-19 16:12:34 发布自北京，悬赏 10 积分
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