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 Infinite selectivity in dry etching process for high-aspect-ratio hole using C7HF7 gas plasma C7HF7气体等离子体干法刻蚀高纵横比孔的无限选择性
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Junji Kataoka; Norikatsu Sasao; Koji Asakawa; Shuichi Kuboi; Daiki Iino; et al 出版日期：2025-06-18 |
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