| 标题 |
 Evaluate the impact of advanced cell pitch on U-MOSFET wafer edge IGSS failure in a CMOS environment 相关领域
沟槽
薄脆饼
浅沟隔离
临界尺寸
CMOS芯片
材料科学
光电子学
GSM演进的增强数据速率
MOSFET
电子工程
返工
过程控制
泄漏（经济）
半导体器件制造
电压
工程类
电气工程
制作
光学
德拉姆
失效模式及影响分析
集成电路
计算机科学
维数（图论）
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| 网址 |
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| DOI |
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| 其它 |
INTERNATIONAL JOURNAL OF NANOELECTRONICS AND MATERIALS Volume 19 Issue 2 Page 289-297 |
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