| 标题 |
On mechanisms to control SiO2 etching kinetics in low-power reactive-ion etching process using CF4 + C4F8 + Ar + He plasma |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Vacuum 作者:Gilyoung Choi; Alexander Efremov; Dae-Kug Lee; Choong-Ho Cho; Kwang-Ho Kwon 出版日期:2023-08-09 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)