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Subatmospheric chemical vapor deposition ozone/TEOS process for SiO2 trench filling |
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 作者:I. A. Shareef; G. W. Rubloff; M. Anderle; W. N. Gill; J. Cotte; D. H. Kim 出版日期:2002-07-27 |
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