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 The Influence of Technological Factors on the Surface Resistance of Films Obtained by Magnetron Sputtering of a Target Composition (MOSi2 + 20% SiC) 相关领域
材料科学
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期刊：Surface Engineering and Applied Electrochemistry 作者：И. М. Романов; С. Д. Латушкина; A. R. Luchenok; О. И. Посылкина 出版日期：2025-10-01 |
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