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 Nanostructured Etching of Ruthenium in Three-Component Cl2/O2/Ar Plasma 相关领域
钌
组分（热力学）
材料科学
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期刊：Russian Microelectronics 作者：I. I. Amirov; M. O. Izyumov; D. V. Lopaev; T. V. Rakhimova; A. N. Kropotkin; et al 出版日期：2025-09-01 |
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