High-Temperature Atomic Layer Deposition of Thermal-Oxide-Quality SiO2 Using Methyltrichlorosilane

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标题	High-Temperature Atomic Layer Deposition of Thermal-Oxide-Quality SiO2 Using Methyltrichlorosilane
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.5c02008
DOI	10.1021/acsaelm.5c02008 doi
其它	期刊：ACS Applied Electronic Materials 作者：Okhyeon Kim; Jae-Seok An; Tanzia Chowdhury; Changgyu Kim; Khabib Khumaini; et al 出版日期：2026
求助人	沉静的梦秋在 2026-04-25 20:58:47 发布自福建，悬赏 10 积分
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