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标题
Ion current density on the substrate during short-pulse HiPIMS
短脉冲HiPIMS过程中衬底上的离子电流密度
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网址
DOI
10.1088/1361-6595/acdd95 doi
其它 期刊:Plasma Sources Science and Technology
作者:В.О. Оскирко; V. Yu. Kozhevnikov; С. В. Работкин; А.П. Павлов; V. A. Semenov; et al
出版日期:2023-06-12
求助人
一番星 在 2025-07-12 13:56:30 发布自广东,悬赏 10 积分
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