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Neon and helium focused ion beam etching of resist patterns
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网址
https://doi.org/10.1088/1361-6528/abafd6
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1088/1361-6528/abafd6 doi
其它 期刊：Nanotechnology
作者：Deying Xia; Xiaoli Zhu; Fouzia Khanom; Doug Runt
出版日期：2020-08-17
求助人
uscd_del 在 2025-10-27 11:29:51 发布自北京，悬赏 10 积分
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