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标题
The study of interface quality in HfO2/Si films probed by second harmonic generation
HfO2/Si薄膜界面质量的二次谐波研究
相关领域
材料科学 接口（物质） 二次谐波产生 光电子学 质量（理念） 工程物理 光学 工程类 物理 复合材料 毛细管数 量子力学 毛细管作用 激光器
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6463/ad61f9
DOI
10.1088/1361-6463/ad61f9 doi
其它 期刊：Journal of Physics D Applied Physics
作者：Ye Li; Libo Zhang; Shaotong Wang; Weiwei Zhao; Chongji Huang; et al
出版日期：2024-07-22
求助人
yyyn 在 2025-08-04 20:17:53 发布，悬赏 10 积分
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