Comparison of Al- and Hf-based hybrid photoresists grown by molecular layer deposition for extreme ultraviolet lithography

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标题	Comparison of Al- and Hf-based hybrid photoresists grown by molecular layer deposition for extreme ultraviolet lithography
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003975
DOI	10.1116/6.0003975 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Ajay Ravi; Long Viet Than; Jacqueline Lewis; Jingwei Shi; Andreas Werbrouck; et al 出版日期：2024-11-08
求助人	樊珩在 2026-10-07 17:53:19 发布自上海，悬赏 10 积分
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