Deep Trench Doping by Plasma Immersion Ion Implantation in Silicon

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标题	Deep Trench Doping by Plasma Immersion Ion Implantation in Silicon
网址	https://doi.org/10.1063/1.2401501
DOI	10.1063/1.2401501 doi
其它	期刊：AIP Conference Proceedings 作者：S. Nizou; V. Vervisch; H. Etienne; M. Ziti; F. Torregrosa; et al 出版日期：2006-12-04
求助人	kudward 在 2026-10-21 15:23:37 发布，悬赏 10 积分
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