Layer-Selective Crystallization of Indium–Gallium Oxide and Indium–Gallium–Zinc Oxide Bilayer Channel Induced by Annealing After UV Treatment for High-Performance Oxide Thin-Film Transistors

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标题	Layer-Selective Crystallization of Indium–Gallium Oxide and Indium–Gallium–Zinc Oxide Bilayer Channel Induced by Annealing After UV Treatment for High-Performance Oxide Thin-Film Transistors 相关领域材料科学氧化物退火（玻璃）双层薄膜晶体管无定形固体偏压结晶阈值电压光电子学晶体管紫外线等效氧化层厚度栅氧化层化学工程电子迁移率氧化物薄膜晶体管阈下传导负偏压温度不稳定性阈下摆动电压
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.5c24727 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1021/acsami.5c24727 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Jae Seong Yun; Dong Keun Lee; Seok Gyu Hong; Yong Seon Hwang; Hwa Seon Kim; et al 出版日期：2026
求助人	镜泠月在 2026-04-21 10:24:52 发布自湖北，悬赏 10 积分
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