| 标题 |
Enhancing advanced nodes curvilinear patterning via multi e-beam writer |
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| DOI |
10.1117/12.3087522
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| 其它 |
期刊:Advanced Lithography 作者:H. Yin; C. Lyu; Chen-hui Lee; P.S. Chen; C. Chen; et al 出版日期:2026-04-08 |
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(2025-6-4)