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Role of polycation adsorption in poly-Si, SiO2 and Si3N4 removal during chemical mechanical polishing: Effect of polishing pad surface chemistry
网址
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S092777571...
DOI
10.1016/j.colsurfa.2011.07.039 doi
其它 期刊：Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects
作者：N. K. Penta; J. B. Matovu; P. Veera; S. Krishnan; S. Babu
出版日期：2011-09-05
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