A user-friendly guide to the optimum ultraviolet photolithographic exposure and greyscale dose of SU-8 photoresist on common MEMS, microsystems, and microelectronics coatings and materials

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标题	A user-friendly guide to the optimum ultraviolet photolithographic exposure and greyscale dose of SU-8 photoresist on common MEMS, microsystems, and microelectronics coatings and materials
网址	http://dx.doi.org/10.1039/c7ay00564d
DOI	10.1039/c7ay00564d doi
其它	期刊：Analytical Methods 作者：Matthieu Gaudet; Steve Arscott 出版日期：2017-01-01
求助人	weiii 在 2026-08-28 10:25:04 发布自江苏，悬赏 10 积分
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