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Stability of double gate amorphous In–Ga–Zn–O thin-film transistors with various top gate designs
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薄膜晶体管 材料科学 栅氧化层 光电子学 晶体管 阈值电压 无定形固体 薄膜 栅极电介质 图层（电子） 电气工程 电压 纳米技术 化学 工程类 结晶学
网址
https://doi.org/10.7567/jjap.56.120303
DOI
10.7567/jjap.56.120303 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Te-Chih Chen; Yue Kuo; Ting‐Chang Chang; Min-Chen Chen; Hua-Mao Chen
出版日期：2017-11-01
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rain 在 2026-01-17 19:23:50 发布自山东，悬赏 10 积分
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