Study of the interfaces in resistive switching NiO thin films deposited by both ALD and e-beam coupled with different electrodes (Si, Ni, Pt, W, TiN)

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标题	Study of the interfaces in resistive switching NiO thin films deposited by both ALD and e-beam coupled with different electrodes (Si, Ni, Pt, W, TiN)
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2008.09.039
DOI	10.1016/j.mee.2008.09.039 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Alessio Lamperti; Sabina Spiga; Hong-Liang Lü; Claudia Wiemer; Michele Perego; et al 出版日期：2008-10-03
求助人	Chen_Sam 在 2026-09-21 18:51:25 发布自广东，悬赏 10 积分
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