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Modulation of ferroelectric properties in TiN/Hf0.5Zr0.5O2/TiN capacitors through oxygen plasma treatment of the TiN bottom electrode 氧等离子体处理TiN/Hf0.5Zr0.5O2/TiN电容器铁电性能的调节
相关领域
锡
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物理化学
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10.2139/ssrn.5262384
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期刊:Surfaces and Interfaces 作者:Tung-Ming Pan; Wei-Che Weng; Jhong-Hao Wu; Fu-Chien Chiu; Jim-Long Her 出版日期:2025-08-26 |
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