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![]() 磁场辅助抛光(MFAF)工艺中不同MRP液抛光工具的设计与分析
相关领域
抛光
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工程类
工程制图
机械工程
计算机科学
操作系统
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期刊:International Journal of Engineering Trends and Technology 作者:Rishabh Kukreja; Pratyush Tanwar; Vatsal Verma; Mahendra Singh Niranjan 出版日期:2020-05-25 |
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