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标题
Effects of pattern characteristics on the copper electroplating process
图案特征对电镀铜工艺的影响
相关领域
电镀 过程(计算) 材料科学 冶金 计算机科学 纳米技术 图层(电子) 操作系统
网址
DOI
10.1088/1674-4926/32/5/055010 doi
其它 期刊:Journal of Semiconductors
作者:Wei Ruan; Lan Chen; Zhigang Li; Tianchun Ye; Tianyu Ma; et al
出版日期:2011-05-01
求助人
蒹葭苍苍 在 2023-11-26 11:06:29 发布自北京,悬赏 10 积分
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