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![]() 低折射率和高折射率氧化铱表面的表面终止和重建的原子成像及其刻面依赖性析氧活性的见解
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Yinping Wei; Wenshuo Li; Yangfan Shao; Ziqiang Wang; Hongda Du; et al 出版日期:2025-01-23 |
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