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A Boundary-Aware Surrogate Model for Predicting Feature-Scale TiN Etching Profiles |
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期刊:IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者:Quanzhi Long; Fuqiang Zheng; Ting Yao; Xiaoming Shi; Xuqing Zhang; Dawei Gao 出版日期:2026 |
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(2025-6-4)