Machine learning enhanced optical proximity correction modeling for high-NA EUV lithography

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标题	Machine learning enhanced optical proximity correction modeling for high-NA EUV lithography
网址	https://doi.org/10.1117/12.3093470
DOI	10.1117/12.3093470 doi
其它	期刊：DTCO and Computational Patterning V 作者：Chih-I Wei; Zachary Levinson; Philip C. W. Ng; Cheng-Huei Lin; Ming-Yun Chen; et al 出版日期：2026
求助人	健忘的从灵在 2026-05-28 15:09:29 发布自广东，悬赏 20 积分
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Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

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