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 Study on the microstructure and properties of (Ti, Al)N film deposited by pulsed high energy density plasma 脉冲高能密度等离子体沉积（Ti，Al）N薄膜的组织与性能研究
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期刊：Acta Physica Sinica 作者：Liu Yuan-Fu; Han Jian-min; Guling Zhang; Jiuli Wang; Guangliang Chen; et al 出版日期：2005-01-01 |
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