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 High reliability ArF light source for double patterning immersion lithography 用于双图案化浸没光刻的高可靠性ArF光源
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期刊：SPIE Proceedings 作者：Rostislav Rokitski; Toshi Ishihara; Rajeskar Rao; Rui Jiang; Mary Haviland; et al 出版日期：2010-03-03 |
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