Film morphology and substrate strain contributions to ramp reversal memory in VO2

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标题	Film morphology and substrate strain contributions to ramp reversal memory in VO2 薄膜形态和基片应变对VO2斜坡逆转记忆的贡献相关领域材料科学薄膜形态学（生物学）基质（水族馆）凝聚态物理晶界金属粒度结晶学纳米技术微观结构物理复合材料冶金化学遗传学生物海洋学地质学
网址	https://doi.org/10.1103/physrevmaterials.8.015002
DOI	10.1103/physrevmaterials.8.015002 doi
其它	期刊：Physical Review Materials 作者：Avital Fried; Elihu Anouchi; Gili Cohen Taguri; Jonathan Shvartzberg; Amos Sharoni 出版日期：2024-01-09
求助人	虾米在 2025-07-16 21:16:51 发布自江苏，悬赏 10 积分
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