| 标题 |
  Atomic-Layer-Deposition-Assisted Interfacial Engineering of Metal-Oxide-Metal Devices via Multilayer Structures to Improve Leakage Characteristics 通过多层结构改善金属-氧化物-金属器件的原子层沉积辅助界面工程
相关领域
原子层沉积
泄漏（经济）
材料科学
金属
氧化物
图层（电子）
沉积（地质）
化学工程
纳米技术
冶金
工程类
地质学
沉积物
宏观经济学
古生物学
经济
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：ACS Omega 作者：Zhao-Cheng Chen; Hao‐Jung Liu; Yu‐Chi Chang; Shoou-Jinn Chang 出版日期：2025-04-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
活雷锋
cdercder
赵焱峥
无极微光
GingerF
heekkll
天一天
奔跑
初景
拼搏的妙彤
佳简成初
6666
arniu2008
lizishu
小马要努力
Criminology34
Car66614
贤惠的迎松
文静的含蕾
HonneursW
皖公网安备34019202002308
