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标题
Highly textured AlN films deposited by pulsed DC magnetron sputtering with optimized process parameters
优化工艺参数脉冲直流磁控溅射沉积高织构AlN薄膜
相关领域
脉冲直流 材料科学 溅射沉积 高功率脉冲磁控溅射 光电子学 过程（计算） 溅射 腔磁控管 纹理（宇宙学） 薄膜 纳米技术 计算机科学 操作系统 图像（数学） 人工智能
网址
https://doi.org/10.1016/j.ssc.2024.115821
DOI
10.1016/j.ssc.2024.115821 doi
其它 期刊：Solid State Communications
作者：Vladimir R. Shayapov; A L Bogoslovtseva; Sergey Chepkasov; Aleksandr V. Kapishnikov; Maria I. Mironova; et al
出版日期：2024-12-28
求助人
tib 在 2025-12-06 08:42:57 发布自海南，悬赏 10 积分
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