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 Preventing oxide precipitation in selective wet etching of Si3N4 for 3D-NAND structure fabrication: The role of bubbles 防止用于3D-NAND结构制造的Si3N4选择性湿法蚀刻中的氧化物沉淀：气泡的作用
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：Hao Zhang; Haiqiang Yang; Fang Yuan; Bo Liu; Qiang Yang 出版日期：2023-10-12 |
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