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Dependence of polymer main-chain structure on roughness formation of ArF photoresists in the plasma etching processes
等离子体刻蚀过程中聚合物主链结构对ArF光刻胶粗糙度形成的依赖性
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网址
https://doi.org/10.1088/0022-3727/45/9/095201
DOI
10.1088/0022-3727/45/9/095201 doi
其它 期刊：Journal of Physics D Applied Physics
作者：Takuji Uesugi; Takeru Okada; Akira Wada; Keisuke Kato; Atsushi Yasuda; et al
出版日期：2012-02-17
求助人
觞f 在 2025-06-24 18:33:38 发布自中国，悬赏 10 积分
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