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标题
Photoreversible Resists for UV Nanoimprint Lithography (UV-NIL)
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DOI
10.1021/am100330s doi
其它 期刊:ACS Applied Materials & Interfaces
作者:Hong Lin; Xia Wan; Zhongjie Li; Xuesong Jiang; Qingkang Wang; et al
出版日期:2010-06-24
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