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Atomic Layer Deposited High‐κ Films and Their Role in Metal‐Insulator‐Metal Capacitors for Si RF/Analog Integrated Circuit Applications |
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期刊:Chemical Vapor Deposition 作者:C. Zhu; B.‐J. Cho; M.‐F. Li 出版日期:2006-03-01 |
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(2025-6-4)