Top-Gate CVD WSe2 pFETs with Record-High Id~594 μA/μm, Gm~244 μS/μm and WSe2/MoS2 CFET based Half-adder Circuit Using Monolithic 3D Integration

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标题	Top-Gate CVD WSe2 pFETs with Record-High Id~594 μA/μm, Gm~244 μS/μm and WSe2/MoS2 CFET based Half-adder Circuit Using Monolithic 3D Integration 相关领域晶体管材料科学化学气相沉积场效应晶体管电气工程堆积光电子学物理拓扑（电路）电压核磁共振工程类
网址	https://doi.org/10.1109/iedm45625.2022.10019476
DOI	10.1109/iedm45625.2022.10019476 doi
其它	期刊：作者：Xiong Xiong; Shiyuan Liu; Honggang Liu; Yang Chen; Xinhang Shi; et al 出版日期：2022-12-03
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