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Application of KrCI excilamp for cleaning GaAs surfaces using atomic hydrogen
KrCI excilamp在原子氢清洗GaAs表面中的应用
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氢 材料科学 氧化物 原子层沉积 辐射 原子物理学 卤化物 光电子学 化学 图层（电子） 光学 纳米技术 无机化学 物理 冶金 有机化学
网址
https://doi.org/10.1117/12.309500
DOI
10.1117/12.309500 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：В. Ф. Тарасенко; V. A. Kagadei; М. И. Ломаев; Alexei N. Panchenko; Dmitrii I. Proskurovsky
出版日期：1998-06-03
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称心的沛槐 在 2025-10-16 07:20:19 发布自重庆，悬赏 20 积分
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