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标题
What is the optimum exposure dose for a positive resist containing poly-functional photoactive compound?
含有多官能光活性化合物的正性抗蚀剂的最佳曝光剂量是多少？
相关领域
抵抗 光刻胶 平版印刷术 溶解 潜影 材料科学 纳米技术 化学 光电子学 图像（数学） 计算机科学 物理化学 人工智能 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1016/0167-9317(91)90059-m
DOI
10.1016/0167-9317(91)90059-m doi
其它 期刊：Microelectronic Engineering
作者：Peter Trefonas; Thomas Fisher; Joseph Lachowski
出版日期：1991-03-01
求助人
迷你的心情 在 2025-08-25 15:33:00 发布自湖南，悬赏 10 积分
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