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 Free form source and mask optimization for negative tone resist development for 22nm node contact holes 用于22nm节点接触孔负色调抗蚀剂开发的自由形式源和掩模优化
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Tamer H. Coskun; Huixiong Dai; Vishnu Kamat; Ching-Mei Hsu; Gaetano Santoro; et al 出版日期：2012-02-21 |
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