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标题
ALD HfO2 and Al2O3 as MIM Capacitor Dielectric for GaAs HBT Technology
ALD HfO2和Al2O3作为GaAs HBT技术MIM电容器电介质
相关领域
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网址
http://dx.doi.org/10.1149/05301.0281ecst
DOI
10.1149/05301.0281ecst doi
求助人
李欣超 在 2025-12-25 10:58:54 发布自浙江，悬赏 10 积分
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