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[高分] Atomic Layer Modulation of Ruthenium Aluminum Oxide through Reactivity Control of Precursors for Seedless Copper Interconnects
通过无籽晶铜互连前驱体的反应性控制对氧化铝钌的原子层调制
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| 网址 |
求助人暂未提供
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| 其它 | Chi Thang Nguyen, Miso Kim, Youn-Hye Kim, Taehoon Cheon, Ngoc Le Trinh, Sehee Kim, Soo-Hyun Kim, Bonggeun Shong*, and Han-Bo-Ram Lee* |
| 求助人 | |
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(2025-6-4)
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