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 Surface sulfurization of amorphous carbon films in the chemistry of oxygen plasma added with SO2 or OCS for high-aspect-ratio etching 高纵横比刻蚀中SO2或OCS氧等离子体化学中非晶碳膜的表面硫化
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期刊：Applied Surface Science 作者：Kenji Ishikawa; Thi‐Thuy‐Nga Nguyen; Yuta Aoki; Hiroyasu Sato; Junichi Kawakami; et al 出版日期：2023-11-08 |
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