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  High-aspect nano-groove fabrication in thick film resists using 150-kV high acceleration voltage electron beam lithography 使用150kV高加速电压电子束光刻在厚膜抗蚀剂中制作高纵横比纳米凹槽
相关领域
抵抗
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期刊：Precision engineering 作者：Tatsuki Sugihara; Satoshi Nagai; Arata Kaneko 出版日期：2022-03-01 |
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