Non-invasive in situ plasma monitoring of reactive gases using the floating harmonic method for inductively coupled plasma etching application

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标题	Non-invasive in situ plasma monitoring of reactive gases using the floating harmonic method for inductively coupled plasma etching application
网址	https://doi.org/10.1063/1.4799972
DOI	10.1063/1.4799972 doi
其它	期刊：Rev Sci Instrum 作者：Lee JH, Yoon YS, Kim MJ 出版日期：2013-04-01
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