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Oxygen Vacancy Kinetics Mechanism of the Negative Forming-Free Process and Multilevel Resistance Based on Hafnium Oxide RRAM |
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| DOI |
10.1155/2019/6724018
doi
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| 其它 |
期刊:Journal of Nanomaterials 作者:Mingqun Qi; Cuiping Guo; Meihan Zeng 出版日期:2019-03-20 |
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