Prediction and Validation of the Process Window for Atomic Layer Etching: HF Exposure on TiO2

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标题	Prediction and Validation of the Process Window for Atomic Layer Etching: HF Exposure on TiO2
网址	http://dx.doi.org/10.1021/acs.jpcc.1c08110
DOI	10.1021/acs.jpcc.1c08110 doi
其它	期刊：The Journal of Physical Chemistry C 作者：Suresh Kondati Natarajan; Austin M. Cano; Jonathan L. Partridge; Steven M. George; Simon D. Elliott 出版日期：2021-11-12
求助人	Atlantis 在 2026-10-30 13:50:37 发布自上海，悬赏 10 积分
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