Atomic layer deposition of hafnium silicate thin films using a single source precursor

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标题	Atomic layer deposition of hafnium silicate thin films using a single source precursor
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2026.166712
DOI	10.1016/j.apsusc.2026.166712 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Jieun Oh; Seo-Hyun Lee; Jeongbin Lee; Chang Mo Yoon; Daeyeong Kim; et al 出版日期：2026-07-01
求助人	孤独听荷在 2026-09-04 16:09:28 发布自江苏，悬赏 10 积分
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