高掺磷多晶硅/氧化层界面凸点缺陷形成机理与工艺优化

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文献求助详情

标题	高掺磷多晶硅/氧化层界面凸点缺陷形成机理与工艺优化
网址	https://kns.cnki.net/kcms2/article/abstract?v=3uoqIhG8C44YLT...
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
其它	1. 赵冬雪, 霍宗亮. 高掺磷多晶硅/氧化层界面凸点缺陷形成机理与工艺优化[J]. 微电子学, 2022,52(03):415-420.
求助人	研友_ndoWVL 在 2026-07-08 23:31:23 发布自上海，悬赏 10 积分
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