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[高分]
Reactive ion beam etch of highly uniform slanted gratings for augmented reality applications |
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10.1117/12.3001026
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期刊:The A-V 作者:M. Souri; V. Ip; Matthias Falmbigl; Meng Lee; M. Campo; et al 出版日期:2024-03-13 |
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(2025-6-4)