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 Corrosion inhibitors in H2O2 system slurry for Ru based barrier layer Cu interconnect chemical mechanical polishing and optimization 相关领域
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期刊：Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects 作者：Jiadong Zhao; Fangyuan Wang; Yi Xu; Baimei Tan; Xinyu Zhao; et al 出版日期：2024-09-12 |
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