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标题
Effects of polishing parameters on surface quality in sapphire double-sided CMP
抛光参数对蓝宝石双面CMP表面质量的影响
相关领域
抛光 材料科学 薄脆饼 蓝宝石 研磨 表面粗糙度 化学机械平面化 表面光洁度 复合材料 光学 光电子学 物理 激光器
网址
DOI
10.1016/j.ceramint.2020.02.116 doi
其它 期刊:Ceramics International
作者:Zhongyang Li; Zhaohui Deng; Yangxuan Hu
出版日期:2020-06-01
求助人
yyy 在 2024-01-11 21:07:19 发布自山西,悬赏 10 积分
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